低温高速溶射による成膜技術が、光触媒技術を向上
光触媒や銀が、その作用力を効率的に発揮できるようにするには、土台となる基材に、効率的に成膜する必要があります。
光触媒の基材への成膜は、接着剤の役目を担う溶剤に混ぜて塗布する方法が一般的ですが、この方法では、光触媒や銀が溶剤に埋もれるとともに、基材表面上の密度も、まばらになってしまいます。その結果、光触媒や銀が、光や空気、有害物質に触れる面積が極めて少なくなり、効率性は著しく抑制されることになります。
-独自の低温高速フレーム溶射-
長年の鉄鋼の経験で培った溶射の技術を導入・改善し、この問題を解決しました。
溶射は溶剤を使わず、直接基材に材料を打ちこみます。ただ、溶射は非常に高温となる為、光触媒が変性してしまいます。
しかし、温度を落とすと溶射スピードが落ちてしまい、うまく成膜できません。この相反する要件【低温かつ高速】を両立させたのが、低温高速フレーム溶射というフジコー特許技術です。
これにより、光触媒・銀を「直接」、「均一」に成膜することを可能にし、光触媒や銀の活性面積は飛躍的に大きくなりました。
3回に分けてご紹介した、【光触媒】・【銀】・【成膜方法】これらが、マスククリーンMC-T101の技術を、大きく発揮することが出来る仕組みです。
弊社は、新潟でマスククリーンMC-T101の販売をしており、1台からの受注を承ります。お気軽にお問い合わせください。
